衬偏调制,衬偏调制是什么意思
在一般情况下,我们都没有考虑衬底电位对晶体管性能的影响,都是假设衬底和晶体管的源极相连,即VBS (Bulk-Source)=0的情况,而实际工作中,经常出现衬底和源极不相连的情况,此时,VBS不等于0。在晶体管的衬底与器件的源区形成反向偏置时,将对器件产生什么影响呢? 由基本的pn结理论可知,处于反偏的pn结的耗尽层将展宽。当衬底与源处于反偏时,衬底中的耗尽区变厚,使得耗尽层中的固定电荷数增加。由于栅电容两边电荷守衡,所以,在栅上电荷没有改变的情况下,耗尽层电荷的增加,必然导致沟道中可动电荷的减少,从而导致导电水平下降。若要维持原有的导电水平,必须增加栅压,即增加栅上的电荷数。对器件而言,衬底偏置电压的存在,将使MOS晶体管的阈值电压的数值提高。对NMOS,VTN更正,对PMOS,VTP更负,即阈值电压的绝对值提高了。对处于动态工作的器件而言,当衬底接一固定电位时,衬偏电压将随着源节点电位的变化而变化,产生对器件沟道电流的调制,这称为背栅调制,用背栅跨导gmB来定义这种调制作用的大小。
衬底调制的模拟与比较
模拟条件:源电压保持0.05V,衬底电位分别设为0,-1,-2,-3V
开启电压随衬底偏压变化如表2所示。
从表2中可以得到:BULK和DSOI的衬底调制效应非常严重,M-DSOI相对DSOI和BULK衬底调制效应得到了较好的抑制。衬底调制效应的根本原因在于源漏区与衬底的电荷感应,M-DSOI更好地隔离了源漏区与衬底,从而减弱了衬底调制效应。
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